직무 · SK하이닉스 / 공정기술
Q. SK하이닉스 Diffusion과 Thin Film 부서에 대해 질문입니다.
통상적으로 반도체 고정에서 배우는 산화막 질화막 등등 증착(Depositon)의 경우 어느 부서에 해당이 되는걸까요? Thin film에 Metal 공정도 포함이 되는걸까요?
2026.05.12
답변 5
- 멘멘토 호날도KT코전무 ∙ 채택률 58%
채택된 답변● 채택 부탁드립니다 ● 보통 반도체 공정에서 배우는 산화막 질화막 증착 공정은 SK하이닉스 기준으로 Thin Film 영역에 더 가깝다고 보시면 됩니다. CVD ALD PVD 같은 Deposition 공정들이 대표적으로 포함되고 산화막 질화막 형성도 여기서 많이 다룹니다. Diffusion은 이름처럼 열처리 기반 공정 비중이 큽니다. 산화 확산 어닐링 등을 담당하며 웨이퍼 특성 변화와 열 공정 최적화에 집중하는 경우가 많습니다. 그리고 Thin Film 안에는 Metal 공정도 포함되는 경우가 많습니다. 특히 금속 배선 형성을 위한 Metal Deposition PVD Barrier Seed 공정 등이 Thin Film 조직 안에 같이 운영되는 케이스가 많습니다.
- 다다할수있습니다큐비앤맘코상무 ∙ 채택률 53%채택된 답변
조금이라도 도움이 되셨다면 채택 부탁드립니다 ~~~~ 보통 말씀하신 산화막, 질화막 같은 절연막 증착은 Thin Film 쪽으로 들어가는 경우가 많습니다. 실제 현업에서도 CVD, ALD, PVD 기반 증착 공정들은 대부분 Thin Film 조직에서 다루는 경우가 많고 Metal 공정도 포함되는 경우가 많습니다. 반면 Diffusion은 이름 그대로 열처리 기반 공정 성격이 강해서 산화, 확산, 어닐링 같은 Furnace 공정 중심으로 운영되는 경우가 많습니다. 그래서 Gate Oxide처럼 열산화 기반 공정은 Diffusion에서 다루기도 합니다. 즉 회사마다 조직 구분은 조금 다르지만 일반적으로는 Thin Film = 증착 중심 Diffusion = 열처리 및 산화 중심 으로 이해하시면 방향 잡기 좋습니다. 면접에서는 공정 이름 암기보다 왜 해당 막을 형성하는지, 절연막과 Metal 특성 차이, CVD PVD ALD 차이를 이해하는 게 더 중요합니다.
합격 메이트삼성전자코부사장 ∙ 채택률 77%채택된 답변멘티님. 안녕하세요. SK하이닉스 공정 구조에서 산화막과 질화막을 증착하는 작업은 주로 Diffusion 부서와 Thin Film 부서가 막질의 종류나 형성 방식에 따라 나누어 담당합니다. 고온 환경에서 웨이퍼 표면을 반응시켜 막을 키우는 열산화 방식은 Diffusion에서 맡고 외부 물질을 기화시켜 쌓는 방식은 Thin Film 영역에 해당합니다. 일반적인 금속 배선 공정인 Metal 공정은 말씀하신 대로 얇은 막을 입히는 특성상 Thin Film 부서 내에서 함께 관리하는 체계로 운영합니다. 따라서 두 부서는 장비와 공정 원리가 유사한 부분이 많으므로 채용 준비 시에는 증착의 세부 메커니즘을 정확히 구분하여 이해하는 과정이 매우 중요합니다. 응원하겠습니다.
- PPRO액티브현대트랜시스코부사장 ∙ 채택률 100%
반도체에서 산화막 질화막 금속막 등을 형성하는 증착 공정은 보통 Thin Film 공정 영역으로 묶이는 경우가 많습니다. 그래서 CVD PVD ALD 같은 증착 장비를 다루는 부서가 Thin Film 조직으로 운영되는 회사들이 많고 공정기술 장비기술 평가분석과 연결되어 움직입니다. 산화막 질화막은 절연막 형성 목적이 많고 Metal 공정은 배선 전극 형성 목적이 강하지만 실제로는 모두 막을 형성하는 과정이라 Thin Film 범주 안에 포함되는 경우가 많습니다. 다만 회사마다 조직 구분은 조금 달라서 Metal을 별도 배선 공정으로 분리하기도 하고 CMP 식각과 함께 묶는 경우도 있습니다.
- RReminisen5SK하이닉스코부장 ∙ 채택률 40% ∙일치회사
안녕하십니까? lg전자에서 기구설계 업무를 했으며, 현재 sk하이닉스 기반기술 직무로 재직중인 reminiscence입니다. 박막 내에 금속 배선, ald등의 부서가 나눠져있다고 생각해요 도움이 되셨다면 채택 부탁드립니다.
함께 읽은 질문
Q. 학점에 대한 고민
저는 건동홍 반도체 전공중인 3학년입니다 이번 3-1 성적이 3.6으로 생각보다 너무 낮게 나와서 큰 충격에 빠졌는데 그나마 다행인건 이전에 높은 성적으로 전체 평균 4.1에 전공은 3.98입니다 기업에서 성적 하락을 중요하게 볼까요? 그리고 삼성전자랑 하이닉스가 목표인데 저정도 학점이면 서류탈락은 안할까요,,,, 너무 걱정됩니다
Q. 이공계 학사 신입 포트폴리오 꼭 필수 제출 요소인지 여쭤보고 싶습니다.
안녕하세요. 올해 2026년 2월에 4년제 전자공학과를 졸업하고 개인적인 문제로 인해 취업 준비를 조금 미뤄왔었는데, 이제 슬슬 하나씩 생각하는 거 채워나가보려 합니다. 참고로 학벌과 학점은 평이하며, 목표는 괜찮은 중소기업 정도입니다. 저는 반도체 산업군(=회사) 1. 공정기술/품질관리 2.생산관리 직무 학사 신입 취업을 희망하는데, 제가 희망하는 직무 채용도 포트폴리오가 꼭 필수요소인지 여쭈고 싶습니다. (사람인 구직 플랫폼에서 이력서에 넣을 수 있는 항목들을 보는데, 포트폴리오를 첨부하는 칸이 있어서요ㅠ.) 보통 포트폴리오는 디자인 or 마케팅, 개발 직무만 무조건 필수제출인 것으로 전에 들은 적이 있는데… 반도체 회사 공정기술/품질관리/생산관리 직무 채용도 포트폴리오 제출을 거의 필수로 보는 분위기인지 여쭤보고 싶습니다...! (포트폴리오까지 생각하니 챙길게 너무 많아보여 막막한 것 같습니다...ㅠㅠ🥲) 답변 주시면 정말 감사하겠습니다…!!
Q. 이공계 석사 포트폴리오
안녕하세요 석사 포트폴리오 관해서 질문드립니다. 삼성의 경우 5장 p 이내로 알고 있습니다 혹시 SK 하이닉스는 분량 제한이 어떻게 되는 지 궁금합니다. (표지, 마지막 감사합니다.. 도 포함일까요..?) 또한, 제 석사 연구가 직무와 완전 fit한게 아닌데 전체 연구에서 일부는 엮을 수 있습니다. 근데 이런 연구 경험이 여러 개 있어서 3개 정도 써도 괜찮을 지 합니다. 어떤 분은 1개만 하는 게 낫다고 조언을 듣기도 해서용.. ex) 메인 프로젝트1 (연구 모식도 설명과 전반적으로 이 연구에 대해 설명?), 메인 프로젝트1에서 직무 관련 fit한 figure 설명, 외 나머지 서브 프로젝트 2,3 (직무 관련 figure만 설명?) 이 경우 서브 포로젝트는 intro처럼 전반적으로 연구에 대해 설명은 안 해도 되는 건지... 등등 고민이 많아서, 조언 주시면 감사하겠습니다..!
궁금증이 남았나요?
빠르게 질문하세요.